大樱桃保护地栽培的覆膜及升温

    保护地栽培是人为给甜樱桃树创造一个良好的小环境，改变树体在挡都露底栽培时固定的物候期，以达到果实提早或延迟上市的目的。甜樱桃有自然休眠的特性，最早覆膜时间应在甜樱桃完成自然休眠以后进行，甜樱桃在7.2℃以下，经过650～1440小时，自然休眠才能结束。一般适宜的覆膜时间大约在12月下旬与翌年的1月上中旬，保护地栽培覆膜时必须满足甜樱桃对需冷量的要求，在不具备管理技术和条件的情况下，切记不要盲目追早。覆膜过早，即使具备了生长发育条件，树体也不能正常生长，反而花期温度低，花期过长，开花不整齐，增加了技术难度和管理强度，整体效益不理想。适宜的覆膜时间应在12月底至1月上旬，覆膜以后最好不要急于升温，前几天可先遮阳蓄冷，白天盖帘，晚间揭帘，继续增加甜樱桃对低温的的需要，5～7天后再开始慢慢升温。但升温不宜过急，温度不宜过高，否则容易出现先叶后花和雌蕊先出等生长倒序现象。有取暖设施的，也不要经常加温，特别要注意夜间温度不能过高。在自然条件下，如果棚体保温措施得力是能够满足棚温要求的。只有在遇有特殊天气，如低温、霜冻时，才进行人工辅助增温。